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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0047924 (2013-04-30) | |
등록번호 | 10-1439208-0000 (2014-09-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130047924 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-04-30) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 X선 발생 장치에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 진공 유리관 내벽에 소정의 도전성 금속 물질을 도포하여 캐소드 기능을 수행할 수 있도록 한 X선관 튜브 구조에 관한 것이다.본 발명에서 제안하는 X선관 튜브 구조의 실시예는 유리관과, 상기 유리관의 상단부에 형성되는 X선 조사부와, 상기 유리관의 하단부에 형성되는 스템부를 구비하며, 상기 스템부를 통하여 상기 유리관 내부로 유입된 적어도 2개의 도전 와이어는 전자 방출용 필라멘트를 통하여 상호 연결되되, 상기 유리관 내벽에는 상기 필라멘트에서 방출되는 전자가 상기 X 선
X선관 튜브 구조에 있어서, 유리관과,상기 유리관의 상단부에 형성되는 X선 조사부와상기 유리관의 하단부에 형성되는 스템부를 구비하며,상기 스템부를 통하여 상기 유리관 내부로 유입된 적어도 2개의 도전 와이어는 전자 방출용 필라멘트를 통하여 상호 연결되되, 상기 유리관 내벽에는 상기 필라멘트에서 방출되는 전자가 상기 X 선 조사부로 집속 가능하도록 하는 도전성 금속 물질이 도포되어 있는 것을 특징으로 하는 X선관 튜브 구조.
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