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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0092877 (2013-08-06) | |
공개번호 | 10-2015-0017074 (2015-02-16) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130092877 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-08-06) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 3가 크롬 도금층의 내식성을 향상시키기 위한 방법에 관한 것으로, 형성된 3가 크롬 도금층을 열처리하여 산화막의 형성을 촉진하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따른 방법에 의하면, 도금층 표면에 크롬산화물로 이루어진 부동태막의 형성이 촉진되어, 도금만을 수행한 3가 크롬 도금층에 비해 치밀한 부동태막이 조기에 형성되어, 3가 크롬 도금층의 초기 내식성을 현저하게 향상시킬 수 있다.
형성된 3가 크롬 도금층을 열처리하여 산화막의 형성을 촉진하는 것을 특징으로 하는 3가 크롬 도금층의 내식성 향상방법.
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