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연합인증

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[한국특허] 단분산성 PMMA 고분자 나노비드 및 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08F-020/14
  • C08J-003/12
  • C08J-005/00
  • C08K-003/22
  • C08L-033/12
출원번호 10-2013-0118586 (2013-10-04)
공개번호 10-2015-0040057 (2015-04-14)
등록번호 10-1545629-0000 (2015-08-12)
DOI http://doi.org/10.8080/1020130118586
발명자 / 주소
  • 임상규 / 대구 수성구 달구벌대로 ****, ***동 ***호 (수성동*가, 수성롯데캐슬)
  • 홍성희 / 대구 달성군 다사읍 매곡로*길 *, ***동 ***호 (대구매곡리한일유앤아이아파트)
  • 김순현 / 대전 유성구 노은로***번길 **, ***동 ***호 (하기동, 송림마을*단지아파트)
  • 황성호 / 경기 화성시 금반*길 **-**, *** (반송동, 인앤인타운하우스)
출원인 / 주소
  • 재단법인대구경북과학기술원 / 대구 달성군 현풍면 테크노중앙대로 ***,
대리인 / 주소
  • 특허법인 남앤드남
심사청구여부 있음 (2013-10-04)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 기재는 단분산성 폴리 메틸 메타크릴레이트(PMMA) 고분자 나노비드의 제조방법에 관한 것으로, (a) 중합 개시제를 포함하는 수성 분산액을 제조하는 단계; 및 (b) 상기 분산액에 메틸 메타크릴레이트(MMA)를 첨가한 뒤, 질소 분위기 하에서 분산 중합시키는 단계를 포함하는, 방법에 관한 것이다. 또한, 본 기재는 상기 단계 (b)에서, 상기 분산액에 산화아연(ZnO) 분말을 추가로 첨가함으로써 산화아연을 포함하는 단분산성 PMMA 고분자 나노비드를 제조하는 방법을 제공한다.

대표청구항

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발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 금속 산화물 입자 내포 수지 분체와 이를 포함한 분산액 및 수계 분산체 및 금속 산화물 입자 내포 수지 분체의 제조 방법 및 화장료 | 마츠시타 히로카즈, 호소다 신고, 가타야마 치아키
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