초록 ▼

중성 또는 약알칼리 환경에서도 산화막 및 탄화막의 제거효과가 개선되어 기존의 연속 도장라인에 추가공정 없이 적용되도록, 본 발명은 연속 도장공정에 있어서 인산염 피막형성능이 개선되도록 도장대상체의 표면 용접 열영향부 산화막 및 탄화막을 제거하기 위하여, 20~40 중량%의 포스폰산 금속 킬레이트제; 보조착화제로서 2~10 중량%의 금속이온봉쇄제; pH 조정제로서 10~20 중량%의 알칼리성 원료; 반응속도 향상제로서 0.1~1 중량%의 촉진제; 및 나머지 중량%의 물을 포함하되, 용매에 희석시 pH는 6~10 이고, 전도도 측정값이

중성 또는 약알칼리 환경에서도 산화막 및 탄화막의 제거효과가 개선되어 기존의 연속 도장라인에 추가공정 없이 적용되도록, 본 발명은 연속 도장공정에 있어서 인산염 피막형성능이 개선되도록 도장대상체의 표면 용접 열영향부 산화막 및 탄화막을 제거하기 위하여, 20~40 중량%의 포스폰산 금속 킬레이트제; 보조착화제로서 2~10 중량%의 금속이온봉쇄제; pH 조정제로서 10~20 중량%의 알칼리성 원료; 반응속도 향상제로서 0.1~1 중량%의 촉진제; 및 나머지 중량%의 물을 포함하되, 용매에 희석시 pH는 6~10 이고, 전도도 측정값이 5~30ms/cm 범위이며 칼슘 억제력 측정값이 5~30ml이며, 시료 5ml을 0.1N-HaOH로 중화적정시 소비량이 0~4.9ml가 되도록 조성함으로 특징으로 하는 중성세정제를 제공한다.

대표청구항 ▼

연속 도장공정에 있어서 인산염 피막형성능이 개선되도록 도장대상체의 표면 용접 열영향부 산화막 및 탄화막을 제거하기 위하여,20~40 중량%의 포스폰산 금속 킬레이트제;보조착화제로서 2~10 중량%의 금속이온봉쇄제;pH 조정제로서 10~20 중량%의 알칼리성 원료;반응속도 향상제로서 0.1~1 중량%의 촉진제; 및나머지 중량%의 물을 포함하되,용매에 희석시 pH는 6~10 이고, 전도도 측정값이 5~30ms/cm 범위이며 칼슘 억제력 측정값이 5~30ml이며, 시료 5ml을 0.1N-HaOH로 중화적정시 소비량이 0~4.9ml가 되도

연속 도장공정에 있어서 인산염 피막형성능이 개선되도록 도장대상체의 표면 용접 열영향부 산화막 및 탄화막을 제거하기 위하여,20~40 중량%의 포스폰산 금속 킬레이트제;보조착화제로서 2~10 중량%의 금속이온봉쇄제;pH 조정제로서 10~20 중량%의 알칼리성 원료;반응속도 향상제로서 0.1~1 중량%의 촉진제; 및나머지 중량%의 물을 포함하되,용매에 희석시 pH는 6~10 이고, 전도도 측정값이 5~30ms/cm 범위이며 칼슘 억제력 측정값이 5~30ml이며, 시료 5ml을 0.1N-HaOH로 중화적정시 소비량이 0~4.9ml가 되도록 조성함으로 특징으로 하는 중성세정제.