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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0145303 (2013-11-27) | |
공개번호 | 10-2014-0003354 (2014-01-09) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020090064220 (2009-07-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130145303 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본원은 화학기상증착법을 이용하여 그래핀 성장용 금속 촉매 박막을 포함하는 그래핀 성장 지지체 상에서 그래핀을 성장시키는 것을 포함하는 그래핀 시트의 제조 방법, 이에 대한 그래핀 시트 및 그래핀 적층체, 변형 수용성 그래핀 시트 제조 방법, 변형 수용성 그래핀 시트, 및 이를 이용하는 소자에 관한 것이다.
그래핀 성장용 금속 촉매 박막을 포함하는 그래핀 성장 지지체에 탄소 소스 를 포함하는 반응 가스 및 열을 제공하여 반응시킴으로써 상기 지지체 상에서 그래핀을 성장시키는 것을 포함하는, 그래핀 시트의 제조 방법.
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