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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2013-0153040 (2013-12-10) | |
| 공개번호 | 10-2015-0067528 (2015-06-18) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020130153040 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
| 법적상태 | 취하 |
본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 샤워헤드구조, 그를 가지는 기판처리장치 및 샤워헤드의 분사구 형성방법에 관한 것이다.본 발명은, 기판을 지지하는 기판지지대가 설치되며 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 처리공간의 상측에 설치되며 상기 처리공간 측으로 가스를 분사하도록 상하로 관통형성된 다수의 분사구들이 구비된 분사플레이트를 포함하는 샤워헤드조립체를 포함하는 기판처리장치의 샤워헤드구조로서, 상기 분사구들 중 적어도 일부는 상기 분사구 상단의 내경 φ1이 상기 분사구 하단의 내경φ2보다 크며, 상기 상
기판을 지지하는 기판지지대가 설치되며 밀폐된 처리공간을 형성하는 공정챔버와; 상기 처리공간의 상측에 설치되며 상기 처리공간 측으로 가스를 분사하도록 상하로 관통형성된 다수의 분사구들이 구비된 분사플레이트를 포함하는 샤워헤드조립체를 포함하는 기판처리장치의 샤워헤드구조로서,상기 분사구들 중 적어도 일부는상기 분사구 상단의 내경 φ1이 상기 분사구 하단의 내경φ2보다 크며, 상기 상기 분사구 상단 및 상기 분사구 하단 사이를 연결하는 내주면의 적어도 일부가 상기 분사구의 중심축에 대하여 이루는 각 θ가 26°≤θ≤40°인 경사부를 가지는
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