본원은 에폭시기를 포함하는 실록산 수지 조성물을 이용한 하드코팅막 및 상기 하드코팅막의 제조 방법에 관한 것으로서, 특히 에폭시기를 포함하는 실록산 수지 조성물을 양이온 중합과 수분 열처리라는 특수한 중합 방식을 이용하여 기존의 코팅 조성물로는 얻을 수 없는 우수한 유연성을 갖는 동시에 높은 표면 경도를 갖는 하드코팅막을 제공한다.
대표청구항▼
에폭시기를 포함하는 실록산 수지 [성분 A] 및 양이온 중합 개시제 [성분 C] 를 함유하는 조성물을 제조하고;상기 조성물 중 상기 성분 C 를 개시(initiation)시켜 상기 조성물을 중합한 후, 열처리하는 것을 포함하며,상기 열처리는 50℃ 이상의 온도 및 50% 이상의 상대습도 조건에서의 수분 열처리에 의해 수행되는 것이고,상기 성분 A 가 하기 화학식 1로서 표시되는 평균 단위 화학식을 포함하는 것인, 하드코팅 경화물의 제조 방법:[화학식 1](R1SiO3/2)a(R2O1/2)b(HO1/2)c;상기 화학식 1에서,R1 은
에폭시기를 포함하는 실록산 수지 [성분 A] 및 양이온 중합 개시제 [성분 C] 를 함유하는 조성물을 제조하고;상기 조성물 중 상기 성분 C 를 개시(initiation)시켜 상기 조성물을 중합한 후, 열처리하는 것을 포함하며,상기 열처리는 50℃ 이상의 온도 및 50% 이상의 상대습도 조건에서의 수분 열처리에 의해 수행되는 것이고,상기 성분 A 가 하기 화학식 1로서 표시되는 평균 단위 화학식을 포함하는 것인, 하드코팅 경화물의 제조 방법:[화학식 1](R1SiO3/2)a(R2O1/2)b(HO1/2)c;상기 화학식 1에서,R1 은, 각각 독립적으로 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C1-20 알킬기, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C2-20 알케닐기, 치환될 수 있는 선형 또는 분지형의 C2-20 알키닐기, 및 치환될 수 있는 C6-20 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하는 것이며, 여기서, 상기 R1 중의 평균 60% 이상은 글리시딜기 또는 지환식 에폭시기를 포함하고, 상기 R1 에 치환될 수 있는 치환기는, 선형 또는 분지형의 C1-20 알킬기, C3-8 시클로알킬기, 선형 또는 분지형의 C1-20 알콕시기, 아미노기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐, 알릴기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기, 히드록시기, 시클로부텐기, 알키드기, 우레탄기, 옥세탄기, 페닐기, 에폭시기 및 이들의 조합들로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 포함하고,R2는 선형 또는 분지형의 C1-7 알킬기를 포함하고,a는 양수이고, b는 0 또는 양수이고,c는 0 또는 양수이며,(b + c)/a는 0 내지 0.4 범위의 수임.
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