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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0034245 (2014-03-24) | |
공개번호 | 10-2015-0110184 (2015-10-02) | |
등록번호 | 10-1574229-0000 (2015-11-27) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140034245 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-03-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 무전해 주석 도금액 및 이를 사용하여 무전해 주석 도금하는 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 인쇄회로기판의 무전해 주석 도금시 동판과 실장된 잉크사이의 댐 데미지(Dam damage) 개선을 위한 무전해 주석 도금액 및 이를 사용한 무전해 주석 도금방법에 관한 것이다. 이를 위해 본 발명에 따른 무전해 주석 도금액은 제1주석(Sn2+), 전해질, 착화제, 계면활성제 및 산화방지제를 포함하는 것을 특징으로 한다.
제 1주석(Sn2+), 전해질, 착화제, 계면활성제 및 산화방지제를 포함하는 무전해 주석 도금액으로서,상기 착화제는 카르복실산, 티오요소 및 티오요소 유도체를 포함하되,상기 무전해 주석 도금액 전체 1L를 기준으로 상기 제 1주석(Sn2+) 7~15g/L, 상기 전해질 40~200g/L, 상기 착화제는 티오요소 : 티오요소 유도체의 중량비가 5~7 : 3~5 이고 총 함량이 50~800g/L, 상기 계면활성제 0.01~50g/L 및 상기 산화방지제 0.01~20g/L를 포함하는 것을 특징으로 하는 무전해 주석 도금액.
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