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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0036918 (2014-03-28) | |
공개번호 | 10-2015-0031397 (2015-03-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140036918 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명에 따른 닉스 코팅층 또는 PI 코팅층이 형성된 펠티어소자 장치는 배관 외측에 설치되는 것 뿐만 아니라 부식성 유체가 유동되는 배관 내부에 직접 설치되어 유동되는 유체에 직접 열을 전달할 수 있기 때문에, 열전달에 따른 딜레이를 최소화할 수 있고, 이를 통해 배관 내부에 침전물이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.
부식성 유체를 가열시키기 위한 펠티어소자 장치에 있어서, 펠티어소자 장치;CVD 챔버를 통해, 상기 펠티어소자 장치 표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체;CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 펠티어소자 장치 표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층; 및CVD 진공 증착에 의해, 상기 폴리이미드 코팅층 표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층;이 형성된 부식성 유체를 가열시키기 위한 펠티어소자 장치
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