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연합인증

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펠티어소자 장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-035/28
  • H01L-035/34
출원번호 10-2014-0036918 (2014-03-28)
공개번호 10-2015-0031397 (2015-03-24)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140036918
발명자 / 주소
  • 김재민 / 경기 화성시 동탄나루로 **, ***동 ***호 유보라아파트 (반송동, 나루마을월드메르디앙반도유보라)
출원인 / 주소
  • 주식회사 썬닉스 / 경기도 용인시 기흥구 동백중앙로**번길 **-* , ****호(중동, 에이스 동백 타워)
대리인 / 주소
  • 전종학
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명에 따른 닉스 코팅층 또는 PI 코팅층이 형성된 펠티어소자 장치는 배관 외측에 설치되는 것 뿐만 아니라 부식성 유체가 유동되는 배관 내부에 직접 설치되어 유동되는 유체에 직접 열을 전달할 수 있기 때문에, 열전달에 따른 딜레이를 최소화할 수 있고, 이를 통해 배관 내부에 침전물이 발생되는 것을 최소화할 수 있다.

대표청구항

부식성 유체를 가열시키기 위한 펠티어소자 장치에 있어서, 펠티어소자 장치;CVD 챔버를 통해, 상기 펠티어소자 장치 표면에 진공 기상 증착된 유기화합물 단량체;CVD 진공 증착에 의해, 상기 증착된 펠티어소자 장치 표면에 폴리이미드 코팅된 폴리이미드 코팅층; 및CVD 진공 증착에 의해, 상기 폴리이미드 코팅층 표면에 닉스 코팅된 닉스 코팅층;이 형성된 부식성 유체를 가열시키기 위한 펠티어소자 장치

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 리플렉터실드의 온도상승을 억제시키는 증착챔버 | 황인호
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