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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0041414 (2014-04-07) | |
공개번호 | 10-2015-0116312 (2015-10-15) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140041414 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-04-07) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 가공 개선제 조성물에 관한 것으로, 좀 더 구체적으로는 금속표면에 심한 점착성을 나타내는 고분자 개질제를 기재 또는 첨가제로 사용함에 있어, 활제와 함께 실리카를 병용하여 사용함으로써, 활제를 단독으로 사용하는 종래기술과 달리, 컴파운드 표면에 대한 안티-블록킹(anti-blocking) 현상에 의해 점착 면적을 감소시킬 수 있으며 이로 인해 기존에 사용하는 활제의 사용량 만큼 또는 이보다 사용량을 줄이더라도 가공장비의 금속표면 점착성이 현저히 개선되며, 이로 인해 가공온도를 제어하지 않고 기존 공정을 그대로 유지하면서도
고분자 개질제의 가공성을 개선시키기 위해 첨가되는 가공 개선제 조성물에 있어서,활제 및 세라믹을 병용하여 이루어지는 것을 특징으로 하는, 가공 개선제 조성물.
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