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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0077441 (2014-06-24) | |
공개번호 | 10-2016-0000268 (2016-01-04) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140077441 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-06-24) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
초음파 전해 에칭 장치가 개시된다. 초음파 전해 에칭 장치는, 에칭을 위한 반응 용액과 에칭 대상 금속이 저장되는 저장조와, 에칭 대상 금속에 전원을 인가하는 전원 인가부와, 저장조에 설치되며 반응 용액에 진동 파장을 발생시키는 진동기와, 저장조의 내부에 설치되어 반응 용액의 산도를 측정하는 산도 측정기와, 산도 측정기를 통해 산도 측정 신호를 전송받아 반응 용액의 산도가 설정값 미만이면 진동기를 작동 제어하는 제어부를 포함한다.
에칭을 위한 반응 용액과 에칭 대상 금속이 저장되는 저장조;상기 에칭 대상 금속에 전원을 인가하는 전원 인가부;상기 저장조에 설치되며 상기 반응 용액에 진동 파장을 발생시키는 진동기;상기 저장조의 내부에 설치되어 상기 반응 용액의 산도를 측정하는 산도 측정기; 및상기 산도 측정기를 통해 산도 측정 신호를 전송받아, 상기 반응 용액의 산도가 설정값 미만이면 상기 진동기를 작동 제어하는 제어부;를 포함하는 초음파 전해 에칭 장치.
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