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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0090263 (2014-07-17) | |
등록번호 | 10-1564285-0000 (2015-10-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140090263 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-07-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명에 따른 메타구조 기반 광전극은 기판; 기판 상에 전자선증착, 스퍼터 또는 스프레이 방식으로 증착된 투명한 전도성의 투명전극; 투명전극에 증착된 제2 금속층; 제2 금속층에 적층된 반도체층 혹은 광촉매층; 반도체층 혹은 광촉매층 상에 적층된 제1 금속층; 및 제1 금속층, 반도체층 혹은 광촉매층 및 제2 금속층으로 구성된 메타물질의 표면에 흡착되어 형성된 전기촉매;를 포함하여, 3차원 구조의 금속반도체 메타물질을 형성하여 광촉매와 금속과의 플라즈몬현상과 광트랩효과를 상승시켜 가시광에서의 동작효율을 향상시키는 효과가 있고, 또
기판(500);상기 기판(500) 상에 전자선증착, 스퍼터 또는 스프레이 증착된 투명한 전도성의 투명전극(400);상기 투명전극(400)에 증착된 제2 금속층(300);상기 제2 금속층(300)에 적층된 반도체층 혹은 광촉매층(200); 상기 반도체 혹은 광촉매층(200) 상에 적층된 제1 금속층(100); 및상기 제1 금속층(100), 상기 반도체층 혹은 광촉매층(200) 및 제2 금속층(300)으로 구성된 메타물질의 표면에 흡착되어 형성된 전기촉매(110);를 포함하는 것을 특징으로 하는 메타구조 기반 광전극.
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