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[한국특허] 기판 열처리 장치
SUBSTRATE HEAT TRETMENT APPARATUS
원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C23C-014/58
  • C23C-016/56
출원번호 10-2014-0108625 (2014-08-20)
공개번호 10-2016-0022719 (2016-03-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020140108625
발명자 / 주소
  • 김대화 / 경기도 안산시 상록구 석호공원로*길 **-* (사동)
출원인 / 주소
  • 주식회사 제우스 / 경기 오산시 경기동로 ***-*, (부산동)
대리인 / 주소
  • 특허법인주원
심사진행상태 거절결정(재심사)
법적상태 거절

초록

본 발명은 가열된 공기가 기판을 통과하도록 공기를 순환시켜서 상기 기판을 열처리하는 기판 열처리 장치에 관한 것이다. 기판 열처리 장치는, 유입구로부터 공기가 유입되어 배출구로 배출되는 순환경로가 형성되고, 상기 기판이 인입, 인출되는 셔터를 구비한 챔버부; 상기 챔버부로 유입된 공기를 가열하도록, 상기 순환경로상에 설치된 제1 가열부; 상기 챔버부의 내부에 공기를 순환시키는 순환부; 및 상기 챔버부의 셔터 내측면에 설치되어 챔버부 내의 공기를 가열시키는 제2 가열부; 를 포함한다. 이에 의해, 챔버 상하부와 셔터 부근의 온도를 보

대표청구항

가열된 공기가 기판을 통과하도록 공기를 순환시켜서 상기 기판을 열처리하는 기판 열처리 장치에 있어서,유입구로부터 공기가 유입되어 배출구로 배출되는 순환경로가 형성되고, 상기 기판이 인입, 인출되는 셔터를 구비한 챔버부;상기 챔버부로 유입된 공기를 가열하도록 상기 순환경로상에 설치된 제1 가열부;상기 챔버부의 내부에 공기를 순환시키는 순환부; 및상기 챔버부의 셔터 내측면에 설치되어 챔버부 내의 공기를 가열시키는 제2 가열부; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 가열로 | 이현우
  2. [한국] CIGS 박막 급속 열처리장치 | 김주원, 유상우, 정성재, 박상현
  3. [한국] 열처리 장치 | 임현옥
  4. [한국] 기판 처리 장치 | 김철호

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 기판 처리 장치 | 김준욱, 김대성, 이상화

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