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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0138784 (2014-10-15) | |
공개번호 | 10-2016-0044178 (2016-04-25) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140138784 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-10-15) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 폐실리콘 슬러지로부터 고순도의 실리콘을 회수하는 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 폐실리콘 슬러지의 고형분을 액상에 분산시킨 다음, 상기 실리콘 고형분을 고순도화하고, 고액분리를 통해 고순도화된 실리콘 고형분을 수득하고 이를 건조시켜, 폐실리콘 슬러지로부터 고순도의 실리콘을 회수하는 방법에 관한 것이다.
폐실리콘 슬러지를 분산용매에 분산하여 폐실리콘 고형분을 침전시키는 제1 단계;상기 제1 단계를 거친 용액에 유기용매를 혼합하고, 반응 및 정제하여 상기 고형분을 고순도화하는 제2 단계;상기 제2 단계를 거친 용액을 고액분리하여 상기 고순도화된 고형분을 분리하는 제3 단계; 및상기 제3 단계에서 수득한 고형분을 건조하여 고순도 실리콘을 수득하는 제4 단계를 포함하는, 폐실리콘 슬러지로부터 고순도 실리콘을 회수하는 방법.
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