[특허]Cold Spray를 이용한 Au 스퍼터링 폐 타겟의 직접 Reuse 타겟 제조방법

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Cold Spray를 이용한 Au 스퍼터링 폐 타겟의 직접 Reuse 타겟 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/203
출원번호	10-2014-0150219 (2014-10-31)
공개번호	10-2016-0050968 (2016-05-11)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020140150219
발명자 / 주소	권오집 / 인천광역시 연수구 해돋이로번길 , *동 호 (송도동, 송도풍림아이원단지아파트) 홍길수 / 인천광역시 남동구 호구포로 *, 동 호 (구월동, 롯데캐슬골드아파트) 양승호 / 인천광역시 연수구 해송로 , 동 호 (송도동, 송도웰카운티단지아파트) 윤원규 / 인천광역시 남동구 소래역로 , 동 **호 (논현동, 냇마을신영지웰아파트)
출원인 / 주소	희성금속 주식회사 / 인천광역시 서구 가재울로 ** (가좌동)
대리인 / 주소	특허법인한벗
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 발명은 스퍼터링 폐 타겟을 Cold Spray 방법에 의해 Reuse된 스퍼터링 타겟에 관한 것으로, 상기의 방법은 S1) 스퍼터링 폐 타겟의 표면을 세척 또는 절삭 가공하는 단계; S2) 상기 세척 또는 절삭 가공된 스퍼터링 폐 타겟을 Cold Spray몰드에 투입하는 단계; S3) 상기 몰드에 투입된 스퍼터링 폐 타겟에 원료 분말 Cold Spray를 이용하여 치밀화 코팅층을 형성하는 단계; S4) 상기 코팅층 표면을 가공하는 단계를 포함하는 스퍼터링 폐 타겟의 Cold Spray Reuse방법을 제공한다.

대표청구항

S1) 스퍼터링 폐 타겟의 표면으로부터 불순물을 제거하는 단계;S2) 상기 불순물이 제저된 스퍼터링 폐 타겟을 Cold Spray 몰드에 투입하는 단계;S3) 상기 몰드에 투입된 스퍼터링 폐 타겟에 원료분말을Cold Spray하여 치밀화 코팅층을 형성하는 단계;S4) 상기 코팅층 표면을 가공하는 단계를 포함하는 스퍼터링 폐 타겟의 Cold Spray Reuse 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

[한국] 스퍼터링용 타겟 보수 방법 및 스퍼터링용 타겟 | 김주호, 박동용
상세보기
[한국] 루테늄(Ｒｕ)타겟 제조를 위한 루테늄 분말 제조방법 | 윤원규, 양승호, 홍길수, 김홍식, 강동한
상세보기
[일본] SPUTTERING TARGET AND ITS PRODUCTION | FUKAZAWA MIHARU, YAMAGUCHI SATORU, ISHIGAMI TAKASHI
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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