초록 ▼

본 발명은 기공을 갖는 다공성 기재; 및상기 기재의 일면 또는 양면에 형성된 무기 코팅막을 포함하고,상기 코팅막 내의 수소가 5 내지 20 atomic%로 존재하고,상기 기재의 두께방향 중심부에 위치한 기공의 표면에 이산화규소 코팅막이 형성되고,상기 기재의 일면에 형성된 상기 무기 코팅막의 두께가 300 nm 이하인, 다공성 코팅 분리막에 관한 것이다.또한 본 발명은, 무기물 전구체를 용매에 희석하여 무기물 전구체 용액을 제조하고, 상기 무기물 전구체 용액을 다공성 기재에 도포하고, 상기 도포된 무기물 전구체 용액을, 기재의 일면

본 발명은 기공을 갖는 다공성 기재; 및상기 기재의 일면 또는 양면에 형성된 무기 코팅막을 포함하고,상기 코팅막 내의 수소가 5 내지 20 atomic%로 존재하고,상기 기재의 두께방향 중심부에 위치한 기공의 표면에 이산화규소 코팅막이 형성되고,상기 기재의 일면에 형성된 상기 무기 코팅막의 두께가 300 nm 이하인, 다공성 코팅 분리막에 관한 것이다.또한 본 발명은, 무기물 전구체를 용매에 희석하여 무기물 전구체 용액을 제조하고, 상기 무기물 전구체 용액을 다공성 기재에 도포하고, 상기 도포된 무기물 전구체 용액을, 기재의 일면 당 자외선 조사량 1000 mJ/cm²내지 20000 mJ/cm²에서 경화시키는 것을 포함하는, 다공성 코팅 분리막의 제조 방법에 관한 것이다.

대표청구항

기공을 갖는 다공성 기재; 및상기 기재의 일면 또는 양면에 형성된 무기 코팅막을 포함하고,상기 코팅막 내의 수소가 5 내지 20 atomic%로 존재하고,상기 기재의 두께방향 중심부에 위치한 기공의 표면에 이산화규소 코팅막이 형성되고,상기 기재의 일면의 무기 코팅막의 두께가 300 nm 이하인, 다공성 코팅 분리막.

기공을 갖는 다공성 기재; 및상기 기재의 일면 또는 양면에 형성된 무기 코팅막을 포함하고,상기 코팅막 내의 수소가 5 내지 20 atomic%로 존재하고,상기 기재의 두께방향 중심부에 위치한 기공의 표면에 이산화규소 코팅막이 형성되고,상기 기재의 일면의 무기 코팅막의 두께가 300 nm 이하인, 다공성 코팅 분리막.