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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0195704 (2014-12-31) | |
공개번호 | 10-2016-0082175 (2016-07-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140195704 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-12-31) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
일렉트릿 여재 제조 장치가 제공된다. 일렉트릿 여재 제조 장치는 내부에 중공부가 형성된 챔버, 챔버 내부 일측에 채워지는 극성인 미스트 입자, 챔버 내부 타측에 형성되어 미스트 입자를 흡입하는 흡입부 및 챔버 내부에 위치되어 미스트 입자가 챔버 내부 일측에서 타측으로 이동되는 경로상에 배치되어 미스트 입자가 통과되면 차징되는 여재를 포함한다.
내부에 중공부가 형성된 챔버;극성인 미스트 입자를 생성하여 상기 챔버 내부 일측으로 제공하는 입자 공급부;상기 챔버 내부 타측에 형성되어 상기 미스트 입자를 흡입하는 흡입부; 및상기 챔버 내부의 상기 미스트 입자 이동 경로상에 배치되어 상기 미스트 입자가 통과되면 차징되는 여재;를 포함하는 일렉트릿 여재 제조 장치.
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