초록 ▼

본 발명은 수열합성법을 통하여 나노입자 시드로부터 나노선 어레이를 형성시킨 후, 고분자 층을 도포 및 경화한 다음 나노선을 식각함으로써 나노다공성 고분자 멤브레인을 제조하는 기술에 관한 것이다.본 발명의 나노다공성 고분자 멤브레인은 다양한 기공의 밀도를 가지면서 판형 또는 원통형 구조가 가능하여 세포성장, 조직공학을 비롯한 생체분자채널, 이온채널 등 바이오메디컬 분야와 화학분자, 수처리 필터 등 환경 분야에 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 제조방법에 따르면, 낮은 공정온도에서 수열합성법에 근거하여 산화아연 나노선을 성장시킨 기판

본 발명은 수열합성법을 통하여 나노입자 시드로부터 나노선 어레이를 형성시킨 후, 고분자 층을 도포 및 경화한 다음 나노선을 식각함으로써 나노다공성 고분자 멤브레인을 제조하는 기술에 관한 것이다.본 발명의 나노다공성 고분자 멤브레인은 다양한 기공의 밀도를 가지면서 판형 또는 원통형 구조가 가능하여 세포성장, 조직공학을 비롯한 생체분자채널, 이온채널 등 바이오메디컬 분야와 화학분자, 수처리 필터 등 환경 분야에 적용할 수 있다. 또한, 본 발명의 제조방법에 따르면, 낮은 공정온도에서 수열합성법에 근거하여 산화아연 나노선을 성장시킨 기판 위에 고분자 층을 형성한 후, 산화아연 나노선을 식각하는 간단한 반응으로 나노다공성 고분자 멤브레인을 제조할 수 있다.

대표청구항 ▼

I) 유리 기판을 준비하고, 상기 유리 기판을 30~40℃에서 1~2 시간 동안 아미노프로필트리에톡시실란과 톨루엔의 혼합용액으로 처리한 후, 상기 유리 기판을 톨루엔, 에탄올과 톨루엔 1:1 혼합용액 및 무수 에탄올 순으로 순차적으로 세척 및 건조하여 그 표면을 개질하는 단계;II) Zn(NO3)·6H2O, 세틸트리메틸암모니움 브로마이드 및 에탄올의 반응용액에 수산화나트륨 수용액을 혼합한 혼합용액을 50~70℃에서 1~2시간 동안 반응시켜산화아연 나노입자 시드를 합성하는 단계;III) 상기 표면 개질된 유리 기판 위에 상기 합성된

I) 유리 기판을 준비하고, 상기 유리 기판을 30~40℃에서 1~2 시간 동안 아미노프로필트리에톡시실란과 톨루엔의 혼합용액으로 처리한 후, 상기 유리 기판을 톨루엔, 에탄올과 톨루엔 1:1 혼합용액 및 무수 에탄올 순으로 순차적으로 세척 및 건조하여 그 표면을 개질하는 단계;II) Zn(NO3)·6H2O, 세틸트리메틸암모니움 브로마이드 및 에탄올의 반응용액에 수산화나트륨 수용액을 혼합한 혼합용액을 50~70℃에서 1~2시간 동안 반응시켜산화아연 나노입자 시드를 합성하는 단계;III) 상기 표면 개질된 유리 기판 위에 상기 합성된 산화아연 나노입자 시드를 적가하여 시드층을 형성하고, Zn(NO3)·6H2O, 헥사메틸렌테트라아민, 폴리에틸렌이민 및 증류수의 혼합용액에 상기 시드층이 형성된 유리 기판을 침지한 후, 90~95℃에서 4~10 시간 동안 정치하여 산화아연 나노선을 성장시키는 단계;IV) 상기 산화아연 나노선을 성장시킨 유리 기판 위에 고분자 층을 형성하는 단계; 및V) 상기 IV) 단계의 산화아연 나노선과 유리 기판을 각각 식각하는 단계;를 포함하는 나노다공성 고분자 멤브레인의 제조방법.