초록 ▼

본 발명은 이차 전지용 분리막의 제조 방법 및 그로부터 제조된 분리막에 대한 것이다. 더욱 상세하게는 개시 화학 기상 증착법(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을 이용하여 기계적 강도가 향상된 분리막을 제조하는 방법 및 그 분리막에 대한 것이다. 본원 발명에 따른 분리막 제조 방법은 개시 화학 기상 증착법(initiated chemical vapor deposition; iCVD)를 이용하므로 이차 전지의 분리막용 다공성 기재에 고열 공정에 의한 손상을 주지 않으면서도 인장 강도 등 기계적

본 발명은 이차 전지용 분리막의 제조 방법 및 그로부터 제조된 분리막에 대한 것이다. 더욱 상세하게는 개시 화학 기상 증착법(initiated chemical vapor deposition, iCVD)을 이용하여 기계적 강도가 향상된 분리막을 제조하는 방법 및 그 분리막에 대한 것이다. 본원 발명에 따른 분리막 제조 방법은 개시 화학 기상 증착법(initiated chemical vapor deposition; iCVD)를 이용하므로 이차 전지의 분리막용 다공성 기재에 고열 공정에 의한 손상을 주지 않으면서도 인장 강도 등 기계적 강도가 우수한 이차 전지용 분리막을 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에 의한 제조 방법은 분리막의 피브릴을 미세하게 코팅하는 것이므로 포어 구조에 영향을 주지 않아 분리막의 성능을 저하시키지 않는다. 본원 발명에 따른 방법에 의해서 제조된 분리막은 다공성 구조를 유지하면서도 기계적 강도가 우수한 효과가 있다.

대표청구항

전기 화학 소자의 분리막용 다공성 기재 및; 상기 다공성 기재의 표면 및/또는 상기 다공성 기재에 존재하는 피브릴 표면의 전부 또는 적어도 일부를 피복하는 고분자 박막;을 포함하며, 상기 고분자 박막은 개시 화학 기상 증착법(initiate chemical vapor deposition; iCVD)에 의해 상기 고분자 박막이 가교된 형태로 증착되어 형성된 것이며, 상기 고분자 박막의 접촉각은 20° 내지 60°이고, 이온 전도도가 0.72 내지 0.92 S/cm x 10E-3인 것을 특징으로 하는 것인 이차 전지용 분리막.

전기 화학 소자의 분리막용 다공성 기재 및; 상기 다공성 기재의 표면 및/또는 상기 다공성 기재에 존재하는 피브릴 표면의 전부 또는 적어도 일부를 피복하는 고분자 박막;을 포함하며, 상기 고분자 박막은 개시 화학 기상 증착법(initiate chemical vapor deposition; iCVD)에 의해 상기 고분자 박막이 가교된 형태로 증착되어 형성된 것이며, 상기 고분자 박막의 접촉각은 20° 내지 60°이고, 이온 전도도가 0.72 내지 0.92 S/cm x 10E-3인 것을 특징으로 하는 것인 이차 전지용 분리막.