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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2015-0035267 (2015-03-13) | |
| 공개번호 | 10-2016-0110863 (2016-09-22) | |
| 등록번호 | 10-1679729-0000 (2016-11-21) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020150035267 | |
| 발명자 / 주소 | ||
| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2015-03-13) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
본 발명은 졸-겔(sol-gel)법을 통해 금속산화물 용액을 제조하는 단계(단계 1); 상기 단계 1에서 제조된 금속산화물 용액을 제 1전극 상부에 코팅하는 단계(단계 2); 및 상기 코팅된 박막을 180 내지 200 ℃에서 열처리하는 단계(단계 3);를 포함하는 3차원 나노 리플(ripple) 구조의 금속산화물 박막의 제조방법을 제공한다. 또한, 본 발명에서는 저온공정을 통해 전기적 특성이 향상된 3차원 나노 리플 형상의 금속산화물 박막을 형성할 수 있으며, 박막 내 질소 성분에 의한 산화아연 박막의 전기적 특성의 변화가 태양전지
졸-겔(sol-gel)법을 통해 금속산화물 용액을 제조하는 단계(단계 1);상기 단계 1에서 제조된 금속산화물 용액을 제 1전극 상부에 코팅하는 단계(단계 2); 및상기 코팅된 박막을 180 내지 200 ℃에서 열처리하여 나노 리플(ripple) 구조를 형성하는 단계(단계 3);를 포함하되, 상기 금속 산화물 용액은 음이온을 상기 금속산화물에 대하여 0.25 내지 0.5 중량 %를 포함하는 것을 특징으로 하는 3차원 나노 리플(ripple) 구조의 금속산화물 박막의 제조방법.
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