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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0048899 (2015-04-07) | |
공개번호 | 10-2015-0135999 (2015-12-04) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140062185 (2014-05-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150048899 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-04-07) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
이 기술은 모든 니켈 스트라이크 도금을 행하는 전기도금공정에 있어서, 니켈 스트라이크 도금이 가지고 있는 100 방향으로 우선 배양되는 문제점을 니켈 스트라이크 보정도금 공정으로 해소하는 기술에 관한 것이다. 이 니켈 스트라이크 보정도금을 니켈 스트라이크도금이후 아주 짧게 실시함으로 인하여, 압연불량으로 인한 외관불량을 상당폭 해소할 수 있을 뿐만 아니라, 태양광 활용 기술의 핵심소재인 유연 박막태양전지용 광폭(1m) 철강소재(STS/도금강판)기판의 기술 개발에 있어서, 금속 기판 표면 평탄화 기술을 압연에 의존하지 않고, 습식 도
염화니켈스트라이크 도금을 실시하는 전기도금 공정에 있어서,1)염화니켈 스트라이크 도금을 실시하는 단계;2)상기 염화니켈 스트라이크 도금 이후 도금층의 성장방향을 무방향 무배양 미세평탄 도금층이 되도록 하여 표면 품질을 향상시키기 위해 니켈이온 또는 코발트 이온을 주 재료로 하고, 티타늄이온, 구연산이온, 암모늄이온 중 적어도 하나 이상을 더 포함하는 니켈 스트라이크 보정도금을 실시하는 단계;3)Zn, Cr, Fe, In, Cd, Zr, Ti, Co, Ni, Sn, Pb, Bi, Cu, Pd, Ag, Pt, Au, Os, W, Mo,
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