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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0059615 (2015-04-28) | |
공개번호 | 10-2016-0127984 (2016-11-07) | |
등록번호 | 10-1733861-0000 (2017-04-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150059615 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-04-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명의 환원된 산화그래핀의 제조 방법은 산화그래핀을 환원제에 노출시키는 단계 및 환원제에 노출된 산화그래핀에 광을 조사하여 산화그래핀을 환원시키는 단계를 포함한다.
베이스 기재 상에 산화그래핀이 필름 형태로 코팅된 산화그래핀층에 대해서, 상기 산화그래핀층 상에 액상의 환원제를 코팅하거나, 고상 또는 액상의 환원제를 기상으로 상변화시켜 상기 산화그래핀층과 접촉하게 하는 단계; 및상기 액상의 환원제로 코팅되거나 기상으로 상변화된 환원제에 노출된 산화그래핀층에 10초 이하의 시간동안 인텐스 펄스광(intense pulse light) 형태의 광을 조사하여 500 Ω/□(ohm per square) 이하의 표면 저항값을 갖는 환원된 산화그래핀을 형성하는 단계를 포함하는,환원된 산화그래핀의 제조 방법.
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