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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0079159 (2015-06-04) | |
공개번호 | 10-2016-0143917 (2016-12-15) | |
등록번호 | 10-1726045-0000 (2017-04-05) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150079159 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-06-04) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
극자외선 노광 공정용 마스크가 제공된다. 상기 극자외선 노광 공정용 마스크느, 기판, 상기 기판 상에 교대로 그리고 반복적으로 적층된 제1 물질막 및 제2 물질막을 포함하는 반사막, 상기 반사막 상의 캡핑막, 및 상기 캡핑막 상에 차례로 적층된 위상 변조 패턴 및 흡수 패턴을 포함하되, 상기 위상 변조 패턴 및 상기 흡수 패턴의 측벽들은, 상기 캡핑막의 상부면에 대해서 비스듬할 수 있다.
기판;상기 기판 상에 교대로 그리고 반복적으로 적층된 제1 물질막 및 제2 물질막을 포함하는 반사막;상기 반사막 상의 캡핑막; 및상기 캡핑막 상에 차례로 적층된 위상 변조 패턴 및 흡수 패턴을 포함하되, 상기 위상 변조 패턴 및 상기 흡수 패턴의 측벽들은, 상기 캡핑막의 상부면에 대해서 비스듬한(oblique) 것을 포함하고, 상기 위상 변조 패턴 및 상기 흡수 패턴의 상기 측벽들과, 상기 캡핑막의 상기 상부면의 법선 사이의 각도는, 최대 10°이고, 상기 위상 변조 패턴 및 상기 흡수 패턴의 상기 측벽들과 상기 캡핑막의 상기 상부
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