초록 ▼

본 발명은 표고버섯 재배용 배지 및 이를 이용한 표고버섯 재배방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표고버섯의 재배를 위한 배지 조성물을 조성하는 단계와, 상기 조성된 배지 조성물을 1차 필름과 2차 필름의 이중 구조로 되는 필름 성형체에 입봉하는 단계와, 상기 입봉된 배지를 냉각하는 단계와, 상기 냉각된 배지의 필름 성형체를 타공하여 종균을 접종하는 단계와, 상기 종균이 접종된 배지를 다수개의 통공이 형성된 3차 필름으로 재입봉하는 단계와, 상기 재입봉된 배지를 배양 및 갈변시키는 단계와, 상기 갈변된 배지로부터 2차 필름 및 3차

본 발명은 표고버섯 재배용 배지 및 이를 이용한 표고버섯 재배방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 표고버섯의 재배를 위한 배지 조성물을 조성하는 단계와, 상기 조성된 배지 조성물을 1차 필름과 2차 필름의 이중 구조로 되는 필름 성형체에 입봉하는 단계와, 상기 입봉된 배지를 냉각하는 단계와, 상기 냉각된 배지의 필름 성형체를 타공하여 종균을 접종하는 단계와, 상기 종균이 접종된 배지를 다수개의 통공이 형성된 3차 필름으로 재입봉하는 단계와, 상기 재입봉된 배지를 배양 및 갈변시키는 단계와, 상기 갈변된 배지로부터 2차 필름 및 3차 필름을 제거하는 단계와, 상기 2차 및 3차 필름이 제거된 배지를 생육하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

배지 조성물(100)과, 상기 배지 조성물(100)의 외면을 감싸는 1차 필름(10)과, 상기 1차 필름(10)의 외면을 감싸는 2차 필름(20)과, 상기 2차 필름(20)의 외면을 감싸는 3차 필름(30)으로 구성되는 표고버섯 재배용 배지에 있어서,상기 1차 필름(10)과 2차 필름(20)에는 타공부(T)가 1회 타공으로 형성되어, 상기 타공부(T)를 통해 종균이 접종되고,상기 3차 필름(30)에는 공기의 접촉을 제한하면서도 최소한의 산소 공급 및 이산화탄소의 배출이 이루어질 수 있도록 다수개의 미세한 통공(31)이 형성되며,상기

배지 조성물(100)과, 상기 배지 조성물(100)의 외면을 감싸는 1차 필름(10)과, 상기 1차 필름(10)의 외면을 감싸는 2차 필름(20)과, 상기 2차 필름(20)의 외면을 감싸는 3차 필름(30)으로 구성되는 표고버섯 재배용 배지에 있어서,상기 1차 필름(10)과 2차 필름(20)에는 타공부(T)가 1회 타공으로 형성되어, 상기 타공부(T)를 통해 종균이 접종되고,상기 3차 필름(30)에는 공기의 접촉을 제한하면서도 최소한의 산소 공급 및 이산화탄소의 배출이 이루어질 수 있도록 다수개의 미세한 통공(31)이 형성되며,상기 2차 필름(20) 및 3차 필름(30)이 제거된 배지를 생육하는 동안에 발이가 발생하여 상기 1차 필름(10)을 찢고 나올 수 있도록, 상기 1차 필름(10)은 0.05~0.01mm의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 표고버섯 재배용 배지.