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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0099928 (2015-07-14) | |
공개번호 | 10-2016-0008483 (2016-01-22) | |
등록번호 | 10-1717955-0000 (2017-03-14) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140088160 (2014-07-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150099928 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 사이오 에폭시 스틸렌을 포함하는 경화성 고분자 합성을 통하여 굴절률을 획기적으로 향상시켜 높은 광투과성 및 투명성을 갖는 OLED 광추출용 평탄층에 적용 가능하며, 열 또는 광 경화 반응을 이용하여 박막 가공 및 패턴 형성이 용이하며, 황변이 적어 투과도를 높일 수 있어 OLED 조명 또는 디스플레이 분야 등에 응용가능성이 뛰어나다.
하기 화학식 1로 표기되며, 굴절률이 1.6 내지 1.8인 고분자 화합물. [화학식 1](상기 화학식 1에 있어서, 상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고; 상기 Y는 S, NH 또는 0이고;상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고, 상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 100의 정수이되, abc≠0이다.)
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