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연합인증

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고굴절 반응성 폴리스틸렌 고분자 및 반응성 스틸렌 유도체를 이용한 이의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08F-220/10
  • C08F-212/08
  • C08F-212/14
  • C08F-220/26
  • C08F-220/38
출원번호 10-2015-0099928 (2015-07-14)
공개번호 10-2016-0008483 (2016-01-22)
등록번호 10-1717955-0000 (2017-03-14)
우선권정보 대한민국(KR) 1020140088160 (2014-07-14)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150099928
발명자 / 주소
  • 백남섭 / 대전광역시 유성구 가정로 ** (신성동, 럭키하나아파트) ***동 ***호
  • 정진권 / 대전광역시 중구 충무로***번길 *** (대흥동, 센트럴자이) ***동 ****호
  • 이종휘 / 대전광역시 서구 정림로 ** (정림동, 우성아파트) ***동 ****호
  • 이형종 / 대전광역시 유성구 구즉로 ** (송강동, 한마을아파트) ***동 ****호
출원인 / 주소
  • (주)켐옵틱스 / 대전광역시 유성구 테크노*로 *** (탑립동)
대리인 / 주소
  • 특허법인 플러스
심사청구여부 있음 (2015-07-14)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 사이오 에폭시 스틸렌을 포함하는 경화성 고분자 합성을 통하여 굴절률을 획기적으로 향상시켜 높은 광투과성 및 투명성을 갖는 OLED 광추출용 평탄층에 적용 가능하며, 열 또는 광 경화 반응을 이용하여 박막 가공 및 패턴 형성이 용이하며, 황변이 적어 투과도를 높일 수 있어 OLED 조명 또는 디스플레이 분야 등에 응용가능성이 뛰어나다.

대표청구항

하기 화학식 1로 표기되며, 굴절률이 1.6 내지 1.8인 고분자 화합물. [화학식 1](상기 화학식 1에 있어서, 상기 R1 및 R2는 수소 또는 (C1-C30)알킬이고;상기 X는 단일결합, (C1-C20)알킬렌 또는 (C2-C20)알케닐렌이고; 상기 Y는 S, NH 또는 0이고;상기 Z는 (C6-C30)아릴 또는 (C3-C30)헤테로아릴이고, 상기 a, b 및 c는 각각 독립적으로 0 내지 100의 정수이되, abc≠0이다.)

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 고 에너지선에 고 감응성을 갖는 공중합체의 제조방법 | 나까자끼노부오, 아이히데오, 미야오마나부
  2. [한국] 메타크릴계 공중합체, 그 제조방법 및 이를 이용한 메타크릴계 수지 조성물 | 김일진, 권기혜, 문형랑
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