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[한국특허] 스티렌네이티드 페놀의 제조 방법
METHOD FOR MANUFACTURING STYRENATED PHENOL
원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C07C-037/14
  • C07C-037/82
  • C07C-039/12
  • C07C-039/15
  • C07C-039/16
출원번호 10-2015-0115779 (2015-08-18)
공개번호 10-2017-0021439 (2017-02-28)
등록번호 10-1760439-0000 (2017-07-17)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150115779
발명자 / 주소
  • 노기윤 / 대전광역시 유성구 배울*로 **, ***동 ***호(관평동, 대덕테크노밸리*단지아파트)
  • 장정희 / 대전광역시 유성구 배울*로 **, ***동 ***호(관평동, 중앙하이츠빌)
  • 박제영 / 대전광역시 서구 만년남로 *, ***동 ***호(만년동, 상록수아파트)
출원인 / 주소
  • 금호석유화학 주식회사 / 서울특별시 중구 청계천로 *** (수표동, 시그니쳐타워스 서울)
대리인 / 주소
  • 특허법인 하나
심사청구여부 있음 (2015-08-18)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

본 발명의 일 실시예는 하기 화학식 1로 표시되는 스티렌네이티드 페놀의 제조 방법에 있어서, (a) 제1 산 촉매의 존재 하에, 페놀 화합물과 스티렌 화합물을 반응시키는 단계; 및 (b) 제2 산 촉매의 존재 하에, 상기 (a) 단계의 생성물에 스티렌 화합물을 추가로 투입하여 반응시키는 단계;를 포함하는, 스티렌네이티드 페놀의 제조 방법을 제공한다.[화학식 1]상기 화학식 1에서, n은 1~3의 정수이다.

대표청구항

(a) 제1 산 촉매의 존재 하에, 페놀 화합물과 스티렌 화합물을 반응시키는 단계; 및(b) 상기 제1 산 촉매와 상이한 제2 산 촉매의 존재 하에, 상기 (a) 단계의 생성물에 스티렌 화합물을 추가로 투입하여 반응시키는 단계;를 포함하고,상기 제1 산 촉매가 인산 촉매이고,상기 (a) 단계의 생성물이 모노 스티렌네이티드 페놀, 다이 스티렌네이트 페놀, 및 트리 스티렌네이티드 페놀을 포함하고, 상기 모노 스티렌네이티드 페놀의 함량이 상기 (a) 단계의 생성물의 전체 중량을 기준으로 60 내지 90중량%이고,상기 제2 산 촉매 및 상

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 스티렌네이티드 페놀의 제조방법 | 노기윤, 장정희, 이동은, 김진억

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 첨가제 조성물 및 그 제조방법 | 노기윤, 장정희, 박윤철, 조남현
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