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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0132151 (2015-09-18) | |
등록번호 | 10-1697291-0000 (2017-01-11) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150132151 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-09-18) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
전자파 플라즈마 토치를 이용하여 일부 탄화수소 화합물을 가스화하여 고온의 합성가스 (Synthetic gas)를 생산하고 생산된 고온가스와 산소를 부스터 (Booster) 가스화기에 주입하여 고온에서 대량의 탄화수소 화합물을 합성가스로 생산할 수 있는 고온 복합 가스화 장치와 방법에 관한 것으로 본 발명에 따른 전자파 고온 복합 가스화 장치는 전자파 토치 발생에 필요한 전력을 공급하는 전자파 공급부, 상기 전자파 공급부로부터 전력을 받아 입력가스에 전자파 풀라즈마 토치를 발생하는 전자파 토치장치, 개질 할 탄화수소 화합물을 공급하는
전자파 토치 발생에 필요한 전력을 공급하는 전자파 공급부;상기 전자파 공급부로부터 전력을 받아 전자파 토치를 발생하여 탄화수소 화합물 개질에 필요한 고온 열을 공급하는 전자파 토치장치;개질 할 탄화수소 화합물을 공급하는 탄화수소 공급부; 공급된 탄화수소를 열로 개질 하여 고온의 합성가스를 생산하는 전자파 플라즈마 개질기;순 산소를 공급하는 산소공급부;대량의 탄화수소 화합물을 가스화하기 위한 고온 부스터 개질 반응기; 고온의 개질 가스를 냉각하며 동시에 탄화수소 화합물을 건조하는 냉각부;개질 가스를 순수 합성가스로 정제하는 정제 장치
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