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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0157725 (2015-11-10) | |
공개번호 | 10-2017-0054941 (2017-05-18) | |
등록번호 | 10-1791439-0000 (2017-10-24) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150157725 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-11-10) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 슈퍼커패시터의 효율을 향상시키기 위하여 층간 간격이 넓어진 환원 그래핀 산화물의 제조방법에 관한 것으로, 흑연 산화물을 준비하는 단계; 상기 흑연 산화물을 동결 건조하는 단계; 동결 건조된 흑연 산화물에 대하여 초음파 처리를 수행하는 단계; 초음파 처리된 흑연 산화물을 하이드라진으로 환원하여 환원 그래핀 산화물을 형성하는 단계; 및상기 환원 그래핀 산화물을 가열하는 열처리 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.본 발명은, 흑연 산화물을 동결건조하고 초음파 처리한 뒤에 화학적으로 환원하고 환원된 뒤에는 열처리를 수행함으로써,
흑연 산화물을 준비하는 단계;상기 흑연 산화물을 -55℃이하의 온도에서 48시간이상 동안 동결 건조하는 단계;동결 건조된 흑연 산화물에 대하여 초음파 처리를 수행하는 단계;초음파 처리된 흑연 산화물을 하이드라진으로 환원하여 환원 그래핀 산화물을 형성하는 단계; 및 상기 환원 그래핀 산화물에 대하여 270~290℃의 온도범위에서 수행되는 1단계 열처리와 490~510℃의 온도범위에서 수행되는 2단계 열처리를 순차적으로 수행하는 열처리 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 환원 그래핀 산화물 제조방법.
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