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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-0160003 (2015-11-13) | |
공개번호 | 10-2017-0056388 (2017-05-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150160003 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
육방정계 질화붕소 및 그래핀의 이종접합구조가 개시된다. 본 발명에 따른 이종접합구조는 기판 상에 육방정계 질화붕소 시트를 배치시키는 단계; 및 화학기상증착(Chemical Vapor Deposition : CVD) 공정으로 상기 기판과 상기 육방정계 질화붕소 시트 사이에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함할 수 있다.
기판 상에 육방정계 질화붕소 시트를 배치시키는 단계; 및화학기상증착(Chemical Vapor Deposition : CVD) 공정으로 상기 기판과 상기 육방정계 질화붕소 시트 사이에 그래핀을 성장시키는 단계를 포함하는, 질화붕소 및 그래핀의 이종접합구조 제조방법.
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