최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC8판) |
|
|
출원번호 | 10-2015-0163146 (2015-11-20) | |
공개번호 | 10-2017-0059170 (2017-05-30) | |
등록번호 | 10-2443370-0000 (2022-09-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020150163146 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2020-05-20) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 인산, 인산을 제외한 비불소계 무기산, 규소계 화합물 및 물을 포함하는 실리콘 질화막 식각액 조성물에 관한 것으로, 실리콘 산화막의 식각은 억제하고, 실리콘 질화막만을 선택하여 식각하는 효과를 지니고 있다.
인산, 인산을 제외한 비불소계 무기산, 규소계 화합물 및 물을 포함하는 실리콘 질화막 식각액 조성물로, 상기 규소계 화합물은 하기 화학식 1 내지 4로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 질화막 식각액 조성물.[화학식 1]H2N-R1-[NH-R2]n-[NH-R3]m-Si(OR4)3[화학식 2][화학식 3][화학식 4]상기 R1 내지 R3은 각각 독립적으로 탄소수 1 내지 20의 알킬렌기이고,상기 R4는 탄소수 1 내지 20의 알킬기이고,상기 R5 내지 R12는 각각 독립적으로 탄소수 1 내지
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.