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연합인증

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광촉매 활성 시스템 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-031/04
  • H01L-031/0216
  • H01L-031/0236
  • H01L-031/0288
출원번호 10-2015-0167804 (2015-11-27)
등록번호 10-1725059-0000 (2017-04-04)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150167804
발명자 / 주소
  • 김동하 / 서울특별시 마포구 성미산로**안길 *, ***호 (연남동, 노블레스빌)
  • 김상욱 / 대전광역시 유성구 엑스포로***번길 **-**, ***동 ****호 (도룡동, 스마트시티주상복합아파트)
  • 오영탁 / 대전광역시 유성구 농대로**번길 **, ***호 (궁동, 우림빌)
  • 윤민지 / 경기도 안산시 상록구 안산천서로*길 **, ***호 (월피동, 광덕센스빌)
출원인 / 주소
  • 이화여자대학교 산학협력단 / 서울특별시 서대문구 이화여대길 ** (대현동, 이화여자대학교)
대리인 / 주소
  • 특허법인엠에이피에스
심사청구여부 있음 (2015-11-27)
심사진행상태 등록결정(재심사후)
법적상태 등록

초록

Fe-도핑된 반도체의 펜톤 반응에 의해 라디칼 생성을 극대화시킴으로써 광촉매의 활성을 향상시키기 위한 광촉매 활성 시스템에 관한 것이다.

대표청구항

Fe-도핑된 제 1 반도체 및, 상기 제 1 반도체와 접촉하여 위치하는 제 2 반도체를 포함하는, 광촉매 활성 시스템에 있어서,상기 Fe-도핑된 제 1 반도체 및 상기 제 2 반도체는 과산화수소-함유 용액에 존재하는 것이고,상기 제 1 반도체 및 상기 제 2 반도체는 각각 p 형 또는 n 형 반도체로서, 서로 상이한 반도체이며,상기 광촉매 활성 시스템은 Fe(Ⅱ)가 연속적으로 재생(산화-환원)되어 공급되므로, 반복하여 상기 과산화수소와 반응함으로써 계속해서 수산기 라디칼이 생성되는 것인,광촉매 활성 시스템.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [한국] 광촉매 재료를 이용하는 분해 제거 방법 | 다카야스 데루키, 아라이 데루오, 오노다 긴지
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