초록

화학 반응이 진행되는 장소를 제공하는 반응 하우징과, 상기 반응 하우징 내에 슬라이딩 이동 가능하게 출입되며, 반응물질이 안치되는 기공 구조체가 내부 또는 하부에 구비된 바스켓을 포함하며, 상기 반응물질과 반응하는 반응기체가 상기 하우징을 통해 상기 기공 구조체의 하부에서 투입되어 상기 기공 구조체를 상향 통과하도록 상기 반응기체의 투입 위치가 유도되는 화학 반응기 및 이를 포함하는 화학 반응 시스템이 개시된다.

대표청구항 ▼

화학 반응이 진행되는 장소를 제공하는 반응 하우징; 및상기 반응 하우징에 밀착하여 슬라이딩 이동 가능하게 출입되는 바스켓; 및상기 바스켓의 내부 또는 하부에 구비되며 반응물질이 안치되는 기공 구조체를 포함하며,상기 반응물질과 반응하는 반응기체가 상기 하우징을 통해 상기 기공 구조체의 하부에서 투입되어 상기 기공 구조체를 상향 통과하도록 상기 반응기체의 투입 위치가 유도되며,상기 반응 하우징의 내부 후방에는 생성 기체가 유동되는 아크형 공간부가 형성되고, 상기 아크형 공간부의 경계 영역에는 상기 바스켓의 인입 위치를 제한하는 스토퍼가

화학 반응이 진행되는 장소를 제공하는 반응 하우징; 및상기 반응 하우징에 밀착하여 슬라이딩 이동 가능하게 출입되는 바스켓; 및상기 바스켓의 내부 또는 하부에 구비되며 반응물질이 안치되는 기공 구조체를 포함하며,상기 반응물질과 반응하는 반응기체가 상기 하우징을 통해 상기 기공 구조체의 하부에서 투입되어 상기 기공 구조체를 상향 통과하도록 상기 반응기체의 투입 위치가 유도되며,상기 반응 하우징의 내부 후방에는 생성 기체가 유동되는 아크형 공간부가 형성되고, 상기 아크형 공간부의 경계 영역에는 상기 바스켓의 인입 위치를 제한하는 스토퍼가 구비되며,상기 반응 하우징에 대한 상기 바스켓의 슬라이딩 이동은 허용하되 상기 반응 하우징과 상기 바스켓 간의 갭 발생을 저지할 수 있는 슬라이딩 이동용 갭 발생 저지부를 더 포함하며,상기 슬라이딩 이동용 갭 발생 저지부는, 상기 바스켓의 측면 둘레 방향을 따라 형성되는 스커트부와, 상기 반응 하우징의 내면 둘레 방향을 따라 형성되되 상기 스커트부와 형상 맞춤되면서 접촉되는 하우징측 스커트 지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 화학 반응기.