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| 국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2015-0172459 (2015-12-04) | |
| 등록번호 | 10-1722699-0000 (2017-03-28) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020150172459 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2015-12-04) | |
| 심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
| 법적상태 | 등록 |
저온 분사 방법 및 저온 분사 장치를 제공한다. 본 발명에 따르면, 공급되는 가스를 메인 가스와 분말 공급 가스로 분리하는 가스 분리 단계, 상기 가스 분리 단계로부터 분리된 메인 가스와 분말 공급 가스를 혼합하는 가스 혼합 단계, 상기 가스 분리 단계부터 분리된 메인 가스를 가스 혼합 단계로 공급하는 메인 가스 공급 단계, 및 상기 가스 분리 단계부터 분리된 분말 공급 가스를 가스 혼합 단계로 공급하는 분말 공급 가스 공급 단계를 포함하고, 상기 분말 공급 가스는 헬륨으로 이루어지거나, 상기 분말 공급 가스의 압력은 상기 메인 가
공급되는 가스를 메인 가스와 분말 공급 가스로 분리하는 가스 분리 단계, 상기 가스 분리 단계부터 분리된 메인 가스를 가스 혼합 단계로 공급하는 메인 가스 공급 단계, 상기 가스 분리 단계부터 분리된 분말 공급 가스를 가스 혼합 단계로 공급하는 분말 공급 가스 공급 단계, 및 상기 가스 분리 단계로부터 분리된 메인 가스와 분말 공급 가스를 혼합하는 가스 혼합 단계를 포함하고, 상기 분말 공급 가스는 헬륨으로 이루어지고, 상기 분말 공급 가스의 압력은 상기 메인 가스의 압력보다 5 bar 이상 높은 압력을 가지고, 상기 분말 공급 가
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