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고열전도율을 갖는 반응소결 질화규소의 제조 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C01B-021/068
  • B01J-006/00
  • H01L-023/373
출원번호 10-2015-0173561 (2015-12-07)
공개번호 10-2017-0067235 (2017-06-16)
DOI http://doi.org/10.8080/1020150173561
발명자 / 주소
  • 박영조 / 경상남도 창원시 성산구 상남로 ** 대우아파트 *동 ***호
  • 김진명 / 경상남도 창원시 성산구 상남로 ** *동 ***호 (상남동,대우아파트)
  • 김하늘 / 경상북도 포항시 남구 행복길 *** **동 ***호 (대잠동,화목아파트)
  • 이재욱 / 서울특별시 관악구 관악로*길 ** ***호 (봉천동,세영빌라)
  • 고재웅 / 경상남도 창원시 성산구 대암로 * (남양동, 한림엘리시온아파트) ***동 ***호
  • 고신일 / 경상남도 창원시 성산구 창이대로***번길 * 대동디지털*차아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 한국기계연구원 / 대전광역시 유성구 가정북로 *** (장동)
대리인 / 주소
  • 특허법인충정
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

전력 디바이스 등의 방열 구조에 사용하기 적합한 고열전도율을 갖는 반응소결 질화규소 소결체의 제조 방법이 제공된다. 본 발명은 Si 분말을 원료 분말로 하여, Si 분말의 평균입자크기(d50)가 1~2 마이크로미터 범위에 있도록 밀링하는 단계; 상기 성형체를 1350~1450℃에서 질화 처리하여 상기 성형체 내에 반응결합 질화규소를 형성하는 단계; 및 상기 반응결합 질화규소를 1850℃ 이상의 온도에서 후소결하여 반응소결 질화규소 소결체를 제조하는 단계를 포함하는 반응소결 질화규소 소결체의 제조 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면,

대표청구항

Si 분말을 원료 분말로 하여, Si 분말의 평균입자크기(d50)가 1~2 마이크로미터 범위에 있도록 밀링하는 단계;상기 성형체를 1350~1450℃에서 질화 처리하여 상기 성형체 내에 반응결합 질화규소를 형성하는 단계; 및상기 반응결합 질화규소를 1850℃ 이상의 온도에서 후소결하여 반응소결 질화규소 소결체를 제조하는 단계를 포함하는 반응소결 질화규소 소결체의 제조 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [한국] 규질화물 형광체용 질화규소 분말 그리고 그것을 이용한 CaAlSiN3계 형광체, Sr2Si5N8계 형광체, (Sr, Ca)AlSiN3계 형광체 및 La3Si6N11계 형광체, 및 그 제조 방법 | 후지나가 마사타카, 우에다 타카유키, 사카이 타쿠마, 지다 신스케
  2. [한국] 고열전도율을 갖는 반응소결질화규소의 제조 방법 | 김해두, 박영조, 김진명, 이재욱, 고재웅, 김하늘
  3. [일본] METHOD OF MANUFACTURING SILICON NITRIDE SINTERED COMPACT | TAKIGAWA KAZUAKI, SATO MASAHIRO
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