초록 ▼

본 발명은 기판에 이리듐, 아연, 루테늄, 니켈, 주석 및 티타늄을 포함하는 이리듐합금 졸, 이리듐 졸, 루테늄 졸을 코팅하는 것을 특징으로 하는 이리듐 합금 나노촉매의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 상기 제조된 이리듐 합금 촉매에 전기에너지를 가하면 강력한 산화력을 지닌 하이드록시 라디칼과 산소 라디칼을 생성하므로, 하천수, 하폐수 처리장의 처리수, 음식물 혐기성소화조 폐수, 공장 폐수 등의 생물 화학적 산소 요구량 중 탄소성인 CBOD와 질소성인 NBOD, 화학적산소요구량(COD), 암모니아성 질소, 질산성 질소

본 발명은 기판에 이리듐, 아연, 루테늄, 니켈, 주석 및 티타늄을 포함하는 이리듐합금 졸, 이리듐 졸, 루테늄 졸을 코팅하는 것을 특징으로 하는 이리듐 합금 나노촉매의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 상기 제조된 이리듐 합금 촉매에 전기에너지를 가하면 강력한 산화력을 지닌 하이드록시 라디칼과 산소 라디칼을 생성하므로, 하천수, 하폐수 처리장의 처리수, 음식물 혐기성소화조 폐수, 공장 폐수 등의 생물 화학적 산소 요구량 중 탄소성인 CBOD와 질소성인 NBOD, 화학적산소요구량(COD), 암모니아성 질소, 질산성 질소 및 총질소(T-N)를 제거하는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

다음의 단계를 포함하는 COD, 암모니아성 질소, 질산성 질소 및 질소 제거용 이리듐합금 나노촉매의 제조방법: (a) 1~10N 황산 또는 1~10N 질산 10~90wt%와 레몬산 10~90wt%의 혼합액 1~10wt%에 이리듐(Ir) 0.1~10wt%, 아연(Zn) 0.1~1wt%, 루테늄(Ru) 0.1~1wt%, 니켈(Ni) 0.1~5wt%, 주석(Sn) 0.1~5wt% 및 티타늄(Ti) 68~98.5wt%를 혼합하여 산화시키는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 산화된 혼합물 90~95wt%에 이소프로필알콜 또는 에틸알콜 3~5

다음의 단계를 포함하는 COD, 암모니아성 질소, 질산성 질소 및 질소 제거용 이리듐합금 나노촉매의 제조방법: (a) 1~10N 황산 또는 1~10N 질산 10~90wt%와 레몬산 10~90wt%의 혼합액 1~10wt%에 이리듐(Ir) 0.1~10wt%, 아연(Zn) 0.1~1wt%, 루테늄(Ru) 0.1~1wt%, 니켈(Ni) 0.1~5wt%, 주석(Sn) 0.1~5wt% 및 티타늄(Ti) 68~98.5wt%를 혼합하여 산화시키는 단계; (b) 상기 (a)단계에서 산화된 혼합물 90~95wt%에 이소프로필알콜 또는 에틸알콜 3~5wt%를 혼합한 다음, 5~10N 황산 1~5wt% 및 레몬산 1~5wt%를 적가 및 교반하면서 0.5~1.5℃/h의 속도로 20℃부터 40℃로 20~30시간 가열하여 이리듐합금 졸을 제조하는 단계; (c) 증류수 50~80wt%에 1~5N 티타늄 이소프로폭사이드(Ti(OCH(CH3)2)4) 10~20wt%, 1~5N 질산아연(Zn(NO3)26H2O) 2~5wt%, 유기계알콜 2~10wt%, 피톤치드 0.01~10wt% 및 레몬산 0.01~10wt%를 혼합한 다음, 2~3N 황산 5.98~10wt%를 적가 및 교반하면서 0.5~1.5℃/h의 속도로 20℃부터 40℃로 24~48시간 가열하여 이산화티타늄(TiO2) 졸을 제조하는 단계; (d) 상기 (c)단계에서 제조된 이산화티타늄 졸을 기판에 도포하고, 자외선(UV)을 조사하여 건조한 다음, 500-1000℃로 가열하는 1차 코팅단계; 및 (e) 상기 (d)단계의 이산화티타늄 졸로 1차 코팅된 기판 위에 상기 (b)단계에서 제조된 이리듐합금 졸을 도포하고, 자외선(UV)을 조사하여 건조한 다음, 500-1000℃로 가열하여 2차 코팅한 하여 이리듐합금 나노촉매를 수득하는 단계.