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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-7002564 (2015-01-29) | |
공개번호 | 10-2015-0086222 (2015-07-27) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2013-095164 (2013-04-30) | |
국제출원번호 | PCT/JP2014/061567 (2014-04-24) | |
국제공개번호 | WO 2014/178327 (2014-11-06) | |
번역문제출일자 | 2015-01-29 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020157002564 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-07-03) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
동박(집전체)과 활물질과의 밀착성과 동박의 방청성을 개량하고, 리튬이온 이차전지 음극 집전체용 전해 동박, 및 상기 동박을 음극 집전체로 한 리튬이온 이차전지를 제공한다.동박은 상기 동박 중에 포함되는 불순물인 탄소, 황, 산소, 질소, 염소의 함유량의 합계가 20ppm 이하, 더 바람직하게는 10ppm 이하이면서, 또한, XPS(X선 광전자 분광 분석)에 의해 질소 및 탄소의 백그라운드 레벨보다 크게 검출되는 깊이 범위가 0.2nm 이상 2.0nm 미만, 더 바람직하게는 0.2nm 이상 1.0nm 이하이다.상기 동박은 동박 표면에
동박의 표면에 표면처리 피막을 가지는 표면처리 동박으로서,상기 동박 중에 포함되는 탄소, 황, 산소, 질소, 염소의 함유량의 합계가 20ppm 이하이면서, 또한, XPS(X선 광전자 분광 분석)에 의해 질소 및 탄소의 백그라운드 레벨보다 크게 검출되는 깊이 범위가 0.2nm 이상 2.0nm 미만인,리튬이온 이차전지 음극 집전체용 표면처리 동박.
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