초록 ▼

본 발명은 화학 증착용 반응기 장치(1)에 관한 것으로서, 상기 반응기 장치는 측벽(19)을 구비한 반응 챔버(4), 주변 표면(5b)을 구비한 기판 스탠드(5), 및 반응 가스 주입기(30)를 대면하는 주면(5a)을 포함하고, 상기 주입기(30)와 상기 주면(5a) 사이에는 작업 공간(60)이 한정된다.상기 기판 스탠드(5)는 상기 반응 챔버(4)의 측벽(19)과 상기 기판 스탠드(5)의 주변 표면(5b) 사이에 고리형 통로(107)가 형성되도록 반응 챔버(4) 안에 배치된다.가스 배출 시스템(49)은 상기 작업 공간(60)을 대

본 발명은 화학 증착용 반응기 장치(1)에 관한 것으로서, 상기 반응기 장치는 측벽(19)을 구비한 반응 챔버(4), 주변 표면(5b)을 구비한 기판 스탠드(5), 및 반응 가스 주입기(30)를 대면하는 주면(5a)을 포함하고, 상기 주입기(30)와 상기 주면(5a) 사이에는 작업 공간(60)이 한정된다.상기 기판 스탠드(5)는 상기 반응 챔버(4)의 측벽(19)과 상기 기판 스탠드(5)의 주변 표면(5b) 사이에 고리형 통로(107)가 형성되도록 반응 챔버(4) 안에 배치된다.가스 배출 시스템(49)은 상기 작업 공간(60)을 대면하는 측벽(19)에 배치된 배출구(49a)에 의하여 반응 챔버(4)와 유체 소통된다.퍼지 가스 주입기(105)는 상기 챔버의 측벽(19)과 추가 부품(101)의 제1 벽에 의하여 한정되는 주입 채널(103)을 포함하는데, 상기 주입 채널은 고리형 개구(106)를 통하여 반응 챔버(4) 안으로 이어지며, 상기 측벽(19)과 제1 벽(113)은 개구(106)를 포함하는 상기 채널의 부분(103c)에서 평행하다.상기 고리형 개구(106)를 통하여 주입된 퍼지 가스(200)의 층류 유동은 상기 고리형 통로(107) 안에서 개구(49a)를 향하여 유동한다.

대표청구항 ▼

내부 측벽(19)을 갖는 반응 챔버(reaction chamber; 4);상기 반응 챔버(4) 안으로 개방된 반응 가스 주입기(reactive gas injector; 30);적어도 하나의 기판을 지지하는 주면(main face; 5a)과 주변 표면(peripheral surface; 5b)을 구비한 기판 지지대(substrate support; 5)로서, 상기 주면(5a)은 주면(5a)과 상기 반응 가스 주입기(30)의 사이에 작업 공간(60)이 한정되도록 반응 가스 주입기(30)를 대면하게 배치되는, 기판 지지대(5);상기 작업

내부 측벽(19)을 갖는 반응 챔버(reaction chamber; 4);상기 반응 챔버(4) 안으로 개방된 반응 가스 주입기(reactive gas injector; 30);적어도 하나의 기판을 지지하는 주면(main face; 5a)과 주변 표면(peripheral surface; 5b)을 구비한 기판 지지대(substrate support; 5)로서, 상기 주면(5a)은 주면(5a)과 상기 반응 가스 주입기(30)의 사이에 작업 공간(60)이 한정되도록 반응 가스 주입기(30)를 대면하게 배치되는, 기판 지지대(5);상기 작업 공간(60)을 대면하는 반응 챔버(4)의 내부 측벽(19)에 배치된 원주상의 개구(circumferential opening; 49a)를 통하여 상기 반응 챔버(4)와 유체 소통(fluid connection)되는 가스 배출 시스템(49); 및상기 반응 챔버(4) 안으로 개방된 퍼지 가스 주입기(purge gas injector; 105);를 포함하는 화학 증착용 반응기 장치(reactor device; 1)로서,상기 기판 지지대(5)는, 상기 반응 챔버(4)의 내부 측벽(19)과 상기 기판 지지대(5)의 주변 표면(5b) 사이에 고리형 통로(107)가 형성되도록 상기 반응 챔버(4) 안에 배치되고,상기 퍼지 가스 주입기(105)는, 상기 챔버의 내부 측벽(19)과 추가 부품(additional part; 101)의 제1 벽에 의하여 한정되는 주입 채널(injection channel; 103)을 포함하며, 상기 채널은 고리형 구강부(annular mouth; 106)를 통해서 상기 반응 챔버(4) 안으로 개방되고,퍼지 가스(200)의 층류 흐름(laminar stream)이 상기 고리형 구강부(106)를 통하여 주입됨과, 상기 흐름이 상기 고리형 통로(107)를 통해서 가스 배출 시스템의 개구(49a)까지 유동함을 가능하게 하도록, 상기 구강부(106)를 포함하는 상기 주입 채널의 부분(103c)에서 상기 반응 챔버의 내부 측벽(19)과 추가 부품(101)의 제1 벽(113)이 평행한 것을 특징으로 하는, 화학 증착용 반응기 장치.