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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-7024964 (2015-09-11) | |
공개번호 | 10-2015-0122680 (2015-11-02) | |
등록번호 | 10-2222947-0000 (2021-02-25) | |
우선권정보 | 프랑스(FR) 1351525 (2013-02-21) | |
국제출원번호 | PCT/EP2014/053463 (2014-02-21) | |
국제공개번호 | WO 2014/128269 (2014-08-28) | |
번역문제출일자 | 2015-09-11 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020157024964 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-02-21) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 화학 증착용 반응기 장치(1)에 관한 것으로서, 상기 반응기 장치는 측벽(19)을 구비한 반응 챔버(4), 주변 표면(5b)을 구비한 기판 스탠드(5), 및 반응 가스 주입기(30)를 대면하는 주면(5a)을 포함하고, 상기 주입기(30)와 상기 주면(5a) 사이에는 작업 공간(60)이 한정된다.상기 기판 스탠드(5)는 상기 반응 챔버(4)의 측벽(19)과 상기 기판 스탠드(5)의 주변 표면(5b) 사이에 고리형 통로(107)가 형성되도록 반응 챔버(4) 안에 배치된다.가스 배출 시스템(49)은 상기 작업 공간(60)을 대
내부 측벽(19)을 갖는 반응 챔버(reaction chamber; 4);상기 반응 챔버(4) 안으로 개방된 반응 가스 주입기(reactive gas injector; 30);적어도 하나의 기판을 지지하는 주면(main face; 5a)과 주변 표면(peripheral surface; 5b)을 구비한 기판 지지대(substrate support; 5)로서, 상기 주면(5a)은 주면(5a)과 상기 반응 가스 주입기(30)의 사이에 작업 공간(60)이 한정되도록 반응 가스 주입기(30)를 대면하게 배치되는, 기판 지지대(5);상기 작업
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