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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2015-7026833 (2015-09-25) | |
공개번호 | 10-2015-0115962 (2015-10-14) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2010-083223 (2010-03-31) | |
국제출원번호 | PCT/JP2011/054954 (2011-03-03) | |
국제공개번호 | WO 2011/122235 (2011-10-06) | |
번역문제출일자 | 2015-09-25 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020157026833 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
양호한 외관을 갖는 광택 니켈 도금재, 광택 니켈 도금재를 사용한 전자 부품 및 광택 니켈 도금재의 제조 방법을 제공한다. 광택 니켈 도금재는, 표면의 가공 변질층의 두께가 0.2 ㎛ 이상인 금속 기재와, 금속 기재의 그 표면에 형성된 니켈 도금층을 구비한다.
표면의 가공 변질층의 두께가 0.25 ∼ 3.0 ㎛ 인 금속 기재와, 그 금속 기재의 그 표면에 형성된 니켈 도금층을 구비하고, 상기 니켈 도금층을 구성하는 니켈의 결정 입경이 0.3 ㎛ 이하이고, 상기 가공 변질층이 상기 금속 기재의 표면을 버프 연마 또는 브러시 연마함으로써 형성되어 있고,상기 가공 변질층은 금속 표면에 발생되는 결정립의 미세한 층으로서, 결정 입경이 1 ㎛ 이하인 광택 니켈 도금재.
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