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연합인증

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유리 기판의 세정방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C03C-023/00
  • H01L-021/02
출원번호 10-2015-7032495 (2015-11-12)
공개번호 10-2016-0002911 (2016-01-08)
우선권정보 미국(US) 61/817,532 (2013-04-30)
국제출원번호 PCT/US2014/035771 (2014-04-29)
국제공개번호 WO 2014/179251 (2014-11-06)
번역문제출일자 2015-11-12
DOI http://doi.org/10.8080/1020157032495
발명자 / 주소
  • 에닉스, 다윈 젠 / 미국, 뉴욕 *****, 코닝, 데이비스 로드 ****
  • 나카무라, 요시히로 / 일본, 시주오카 *******, 이와타-시, 시주오카, 니시카이듀카 ****-**
  • 벤카타칼람, 시바 / 미국, 뉴욕 *****, 페인티드 포스트, 우즈 에지 드라이브 ***
  • 왈크잭, 원더 제니나 / 미국, 뉴욕 *****, 빅 플래츠, 카운티 라인 드라이브 ****
  • 왕, 리밍 / 미국, 뉴욕 *****, 페인티드 포스트, 콘혹톤 로드 ****
출원인 / 주소
  • 코닝 인코포레이티드 / 미국 뉴욕 (우편번호 *****) 코닝 원 리버프론트 플라자
대리인 / 주소
  • 청운특허법인
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

박형 유리 기판을 세정하는 방법은 상기 박형 유리 기판이 운반 방향으로 운반됨에 따라 순차적인 화학 세척 단계를 적용하는 단계를 포함한다.나아가, 상기 유리 기판의 표면은 상기 유리 기판의 정전 방전 성질을 향상시키기 위하여 처리될 수 있다.

대표청구항

유리 기판을 운반 방향을 따라 운반 소자로 운반하는 단계를 포함하며, 상기 운반 시 상기 유리 기판의 적어도 하나의 표면에서 다음을 순서대로 포함하는 표면 처리가 수행되는 유리 기판의 표면에서 오염물을 제거하는 인-라인 방법:a) 상기 유리 기판의 적어도 하나의 표면을 오존화된 물을 포함하는 액체 배출물에 노출시키는 단계; b) 상기 유리 기판의 적어도 하나의 표면을 제1베이스 용액의 액체 배출물에 노출시키는 단계; c) 상기 유리 기판의 적어도 하나의 표면을 제2베이스 용액의 액체 배출물에 노출시키는 단계;d) 상기 유리 기판의

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [미국] Single-operation method of cleaning semiconductors after final polishing | Yalamanchili M. Rao, Myli Kari B.,CAX, Shive Larry W.
  2. [미국] Cleaning process and apparatus for silicate materials | Tan, Samantha, Chen, Ning
  3. [미국] Surface cleaning and texturing process for crystalline solar cells | Wijekoon, Kapila, Mishra, Rohit, Stewart, Michael P., Weidman, Timothy, Ponnekanti, Hari, Holtam, Tristan R.
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