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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0008601 (2016-01-25) | |
공개번호 | 10-2016-0018612 (2016-02-17) | |
등록번호 | 10-2024419-0000 (2019-09-17) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020140062185 (2014-05-23) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160008601 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-01-25) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
이 기술은 모든 니켈 스트라이크 도금을 행하는 전기도금공정에 있어서, 니켈 스트라이크 도금이 가지고 있는 100 방향으로 우선 배양되는 문제점을 니켈 스트라이크 보정도금 공정으로 해소하는 기술에 관한 것이다. 이 니켈 스트라이크 보정도금을 니켈 스트라이크도금이후 아주 짧게 실시함으로 인하여, 압연불량으로 인한 외관불량을 상당폭 해소할 수 있을 뿐만 아니라, 태양광 활용 기술의 핵심소재인 유연 박막태양전지용 광폭(1m) 철강소재(STS/도금강판)기판의 기술 개발에 있어서, 금속 기판 표면 평탄화 기술을 압연에 의존하지 않고, 습식 도
염화니켈스트라이크 도금을 실시하는 전기도금 공정에 있어서,1)피도금체에 염화니켈 스트라이크 도금을 실시하는 단계;2)상기 염화니켈 스트라이크 도금 이후 염화니켈 스트라이크 도금층의 불량현상 제거 및 피도금체의 흠집 형상에 따라 도금된 염화니켈 스트라이크 도금층을 균일하게 메워 염화니켈 스트라이크 도금층의 성장방향을 무방향 무배양 미세평탄 도금층이 되도록 하여 표면 품질을 향상시키기 위해 니켈이온을 코발트이온, 티타늄이온을 금속이온 재료로 하고, 구연산이온, 암모늄이온 중 적어도 하나 이상을 더 포함하여 니켈 티타늄 합금도금 또는 니
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