초록

본 발명은, 방사능 오염된 스톤(stone)을 분쇄하여 입도를 감소시키는 제1 단계, 및 상기 제1 단계에서 분쇄된 상기 스톤의 입자들을 세척조 내에서 산성용액과 함께 교반하여 1 Bq/g 이하로 제염처리하는 제2 단계를 포함하고, 상기 제1 단계는, 상기 교반 시 상기 스톤의 입자들이 상기 세척조 바닥으로 가라앉지 않도록 상기 스톤의 입도를 2 mm 이하로 감소시키는 것을 특징으로 하는 방사능 오염 물질의 제염 방법을 제공한다.

대표청구항 ▼

방사능 오염된 스톤(stone)을 분쇄하여 입도를 감소시키는 제1 단계; 및상기 제1 단계에서 분쇄된 상기 스톤의 입자들을 세척조 내에서 산성용액과 함께 교반하여 1 Bq/g 이하로 제염처리하는 제2 단계를 포함하고,상기 세척조 내부에는 상기 교반을 위한 임펠러가 설치되며,상기 제1 단계는, 상기 임펠러의 회전에 의한 상기 교반 시 상기 스톤의 입자들이 상기 산성용액 속에서 부유된 상태로 상기 세척조 바닥으로 가라앉지 않으며, 상기 스톤의 입자들이 상기 교반 시 상기 임펠러에 충돌하며 발생되는 충격을 완화시키도록, 상기 스톤의 입도

방사능 오염된 스톤(stone)을 분쇄하여 입도를 감소시키는 제1 단계; 및상기 제1 단계에서 분쇄된 상기 스톤의 입자들을 세척조 내에서 산성용액과 함께 교반하여 1 Bq/g 이하로 제염처리하는 제2 단계를 포함하고,상기 세척조 내부에는 상기 교반을 위한 임펠러가 설치되며,상기 제1 단계는, 상기 임펠러의 회전에 의한 상기 교반 시 상기 스톤의 입자들이 상기 산성용액 속에서 부유된 상태로 상기 세척조 바닥으로 가라앉지 않으며, 상기 스톤의 입자들이 상기 교반 시 상기 임펠러에 충돌하며 발생되는 충격을 완화시키도록, 상기 스톤의 입도를 1 mm 이상 2 mm 이하로 분쇄시키는 것을 특징으로 하는 방사능 오염 물질의 제염 방법.