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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0015801 (2016-02-11) | |
공개번호 | 10-2017-0094697 (2017-08-21) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160015801 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 시야각 제한 필름 제조 방법에 관한 것이다. 보다 상세하게는 감광성 재료 소재의 몰드를 제조한 후 이를 이용하여 투명성을 갖는 시야각 제한 필름을 간편하게 제조할 수 있는 시야각 제한 필름 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명은 (a) 기판 상에 포토 레지스트 층을 형성하는 단계; (b) 상기 포토 레지스트 층을 미리 결정된 패턴에 따라 노광시키는 단계; (c) 미리 결정된 횟수에 따라 상기 (a) 및 (b) 단계를 반복 수행하여 상기 기판 상에 적층되며 각각 미리 결정된 패턴에 따라 노광이 이루어진 복수 개의 포토 레지스
(a) 기판 상에 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(b) 상기 포토 레지스트 층을 미리 결정된 패턴에 따라 노광시키는 단계;(c) 미리 결정된 횟수에 따라 상기 (a) 및 (b) 단계를 반복 수행하여 상기 기판 상에 적층되며 각각 미리 결정된 패턴에 따라 노광이 이루어진 복수 개의 포토 레지스트 층을 형성하는 단계;(d) 상기 복수 개의 포토 레지스트 층 각각을 현상하여 상기 기판 상에 패턴 구조체를 형성하는 단계;(e) 상기 패턴 구조체 노출면 상에 투명성을 갖는 광학 부재를 도포한 후 상기 광학 부재를 경화하는 단계; 및(f)
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