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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0032001 (2016-03-17) | |
공개번호 | 10-2017-0108309 (2017-09-27) | |
등록번호 | 10-1836216-0000 (2018-03-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160032001 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-03-17) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 개시 내용의 구체예에 따르면, 다양한 미세 패턴을 구현할 수 있으나 비교적 낮은 기계적 강도로 인하여 기존에 사출 성형에 적용되기 곤란한 반도체 공정으로부터 제작된 스탬프를 이용하면서도 간편하고 저렴한 비용으로 고분자 성형물을 제조할 수 있는 고분자 캐스팅 또는 사출 성형 장치 및 방법이 기재된다.
a) 성형용 챔버 및 온도 조절용 컨트롤러를 포함하는 고분자 캐스팅 장치를 제공하는 단계, 여기서 상기 성형용 챔버는, (i) 방열 팬 부재; (ii) 상기 방열 팬 부재 상에 위치하며 상기 컨트롤러에 의하여 조절되는 성형 온도 조건을 제공하는 히터 부재; (iii) 상기 히터 부재 상에 위치하는 하판 부재; (iv) 소정의 폭 및 두께를 가지면서 상기 하판 부재의 외주를 따라 위치하는 금속 재질의 중판 부재; (v) 상기 중판 부재의 두께에 의하여 형성된 내측 입체 공간의 하측 면 상에 장착되며, 반도체 제조 공정에 의하여 미세
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