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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2016-0033281 (2016-03-21) | |
| 공개번호 | 10-2017-0109321 (2017-09-29) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020160033281 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2016-03-21) | |
| 심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조, 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조, 혐기조에서 처리된 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조, 호기조에서 처리된 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조 및 제2무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 처리수를 여과하는 분리막조를 포함하는 하폐수 고도처리 시스템을 제공한다.따라서 질소처리효율을
하폐수가 유입되며, 무산소분위기에서 탈질산화 반응이 진행되는 제1무산소조;상기 제1무산소조에서 처리된 처리수가 유입되며, 혐기성 상태에서 상기 처리수의 인방출 반응이 진행되는 혐기조;상기 혐기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 호기분위기에서 상기 처리수의 인의 과잉섭취 및 질산화 반응이 진행되는 호기조;상기 호기조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 무산소분위기에서 상기 처리수의 탈진산화 반응이 진행되는 제2무산소조; 및상기 제2무산소조에서 처리된 상기 처리수가 유입되며, 상기 처리수를 여과하는 분리막조를 포함하는 하폐수 고도처
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