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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2016-0043925 (2016-04-11) | |
공개번호 | 10-2017-0116339 (2017-10-19) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020160043925 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-04-11) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 포토레지스트 세정용 씬너 조성물에 관한 것으로, 보다 상세하게는 프로필렌글리콜 모노메틸 에테르(Propylene glycol monomethyl ether), 메틸 3-메톡시 프로피오네이트(Methyl 3-methoxy propionate) 및 첨가제를 포함함으로써, 포토레지스트에 대한 세정력 및 염류에 대한 용해도가 우수하며, 배관막힘 현상을 방지할 수 있는 포토레지스트 세정용 씬너 조성물에 관한 것이다.
프로필렌글리콜 모노메틸 에테르(Propylene glycol monomethyl ether), 메틸 3-메톡시 프로피오네이트(Methyl 3-methoxy propionate) 및 첨가제를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토레지스트 세정용 씬너 조성물.
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