초록 ▼

본 발명은 고굴절 유무기 하이브리드 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 용매에 무기 나노입자를 분산시켜 나노입자 분산액을 제조하는 단계, 나노입자 분산액에 방향족 실란계 표면개질제 및 고굴절 모노머를 투입하고 교반하는 단계, 혼합된 나노입자 분산액을 환류 반응을 이용하여 열을 가하며 표면처리하는 단계 및 표면처리된 나노입자 분산액을 증발응축시키는 단계를 포함하며, GEL화가 일어나지 않고 무기 나노입자 함량을 높일 수 있어 프리즘필름에 제조된 고굴절 유무기 하이브리드 조성물을 코팅함으로써, 백라이트유닛(BLU : Back Li

본 발명은 고굴절 유무기 하이브리드 조성물 및 그 제조 방법에 관한 것으로, 용매에 무기 나노입자를 분산시켜 나노입자 분산액을 제조하는 단계, 나노입자 분산액에 방향족 실란계 표면개질제 및 고굴절 모노머를 투입하고 교반하는 단계, 혼합된 나노입자 분산액을 환류 반응을 이용하여 열을 가하며 표면처리하는 단계 및 표면처리된 나노입자 분산액을 증발응축시키는 단계를 포함하며, GEL화가 일어나지 않고 무기 나노입자 함량을 높일 수 있어 프리즘필름에 제조된 고굴절 유무기 하이브리드 조성물을 코팅함으로써, 백라이트유닛(BLU : Back Light Unit)의 휘도를 향상시킬 수 있다.

대표청구항 ▼

고굴절 모노머에 방향족 실란계 표면개질제에 의해 표면이 개질된 무기 나노입자를 포함하는 소프트 몰드 공정에 적용되는 프리즘 필름용 고굴절 유무기 하이브리드 조성물으로, 상기 유무기 하이브리드 조성물은 점도가 2145 cPs 이하이고, 액굴절률이 1.628 이상이며,상기 무기 나노입자는 고형분으로 45 중량% 이상 50 중량% 미만 범위로 분산되고, 상기 무기 나노입자는 지르코니아(ZrO2) 및 티타니아(TiO2) 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 입자로 이루어지며, 상기 무기 나노입자의 평균입경은 39.8 내지 69.9 nm이며,

고굴절 모노머에 방향족 실란계 표면개질제에 의해 표면이 개질된 무기 나노입자를 포함하는 소프트 몰드 공정에 적용되는 프리즘 필름용 고굴절 유무기 하이브리드 조성물으로, 상기 유무기 하이브리드 조성물은 점도가 2145 cPs 이하이고, 액굴절률이 1.628 이상이며,상기 무기 나노입자는 고형분으로 45 중량% 이상 50 중량% 미만 범위로 분산되고, 상기 무기 나노입자는 지르코니아(ZrO2) 및 티타니아(TiO2) 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 입자로 이루어지며, 상기 무기 나노입자의 평균입경은 39.8 내지 69.9 nm이며, 상기 고굴절 모노머는 페녹시에틸메타아크릴레이트, 페녹시-2-메틸에틸메타아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸메타아크릴레이트, 3-하이드록시-2-하이드록시프로필메타아크릴레이트, 벤질메타아크릴레이트, 페닐티오 에틸아크릴레이트, 2-나프틸티오에틸아크릴레이트, 1-나프틸티오에틸아크릴레이트, 2,4,6-트라이브로모페녹시에틸아크릴레이트, 2,4-다이브로모페녹시에틸아크릴레이트, 2-브로모페녹시에틸아크릴레이트, 1-나프틸옥시에틸아크릴레이트, 2-나프틸옥시에틸아크릴레이트, 페녹시2-메틸에틸아크릴레이트, 페녹시에톡시에틸아크릴레이트, 3-페녹시-2-하이드록시프로필아크릴레이트 중에서 선택된 적어도 하나 이상의 물질을 포함하는 1 및 2 작용기를 갖는 메타아크릴레이트 모노머이며,상기 방향족 실란계 표면개질제는 3-(n-스티릴메틸-2-아미노에틸아미노)-프로필트리메톡시실란 히드로클로라이드, 3-(n-스티릴메틸-2-아미노에틸아미노)-프로필트리메톡시실란 및 스티릴에틸트리메톡시실란 중에서 선택된 적어도 어느 하나 이상을 포함하고,상기 방향족 실란계 표면개질제는 상기 무기 나노입자 100 중량부를 기준으로 0.1 내지 10 중량부를 포함하는 소프트 몰드 공정에 적용되는 프리즘 필름용 고굴절 유무기 하이브리드 조성물.