[특허]이산화티탄을 함유하는 고형 에멀젼 비드 및 이를 사용하는 즉시 미백용 화장조성물

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허	크게보기
국제특허분류(IPC8판)	A61K-008/29 A61K-008/02 A61K-008/04 A61K-008/06 A61K-008/34 A61K-008/73 A61Q-019/02
출원번호	10-2016-0057428 (2016-05-11)
공개번호	10-2017-0127165 (2017-11-21)
DOI	http://doi.org/10.8080/1020160057428
발명자 / 주소	이재욱 / 대전광역시 유성구 반석서로 , 동 **호(반석동, 반석마을단지아파트) 정택현 / 충청북도 청주시 흥덕구 오송읍 오송생명로 , 동 호(모아미래도아파트) 강연복 / 경기도 용인시 처인구 금령로번길 *, 동 **호(김량장동, 유장아트빌리지) 김해란 / 충청북도 청주시 흥덕구 오송읍 오송생명로 , 동 *호(모아미래도아파트) 오진주 / 충청북도 진천군 덕산면 대하로 , *동 **호(영무예다음)
출원인 / 주소	(주)케이피티 / 충청북도 청원군 오송생명로 * (강외면)
대리인 / 주소	특허법인코리아나
심사청구여부	있음 (2016-05-11)
심사진행상태	거절결정(재심사)
법적상태	거절

초록 ▼

본 발명에 따르면, 에멀젼의 연속상에 고정화 성분으로서 실온에서 고체인 지질물질 또는 겔-형성 물질 및 즉시 미백 성분으로서 이산화티탄을 함유하는 액상 에멀젼을 동결냉매에 적하하여 제조된 고형 에멀젼 비드로 된 즉시 미백용 화장 조성물 및 이의 제조방법이 제공된다.본 발명에 따른 고형 에멀젼 비드에 함유된 이산화티탄은 고정된 연속상에 포함되어 있어 응집 및 이동이 방지되어 에멀젼의 안정성 및 장기보관성을 저하시키지 않는다.또, 본 발명에 따른 미백 화장 조성물을 크림, 로션 등과 같은 어떠한 에멀젼 제형으로도 제조될 수 있으며, 전

본 발명에 따르면, 에멀젼의 연속상에 고정화 성분으로서 실온에서 고체인 지질물질 또는 겔-형성 물질 및 즉시 미백 성분으로서 이산화티탄을 함유하는 액상 에멀젼을 동결냉매에 적하하여 제조된 고형 에멀젼 비드로 된 즉시 미백용 화장 조성물 및 이의 제조방법이 제공된다.본 발명에 따른 고형 에멀젼 비드에 함유된 이산화티탄은 고정된 연속상에 포함되어 있어 응집 및 이동이 방지되어 에멀젼의 안정성 및 장기보관성을 저하시키지 않는다.또, 본 발명에 따른 미백 화장 조성물을 크림, 로션 등과 같은 어떠한 에멀젼 제형으로도 제조될 수 있으며, 전술한 고정화 성분들이 이산화티탄의 분산성 및 피부 적용감을 더욱 향상시킬 수 있다.

대표청구항

에멀젼의 연속상에, 고정화 성분으로서 실온에서 고체인 지질물질 또는 겔-형성 물질 및 즉시 미백 성분으로서 이산화티탄을 함유하는, 고형 에멀젼 비드로 된 즉시 미백용 화장 조성물.

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IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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